文 / VRAR星球 R星人

行业数据显示，2026年全球AR眼镜出货量预计暴涨85%，突破2368.7万台，其中搭载MicroLED+光波导技术组合的机型占比超60%。这一组合并非简单的技术叠加，而是重构AR显示体验的核心引擎，更成为中美欧在下一代智能终端领域技术竞争的战略赛道。放眼此时此刻，MicroLED+光波导技术组合的国产化进程直接关乎我国在全球XR产业格局中的话语权。

从产业演进规律来看，AR眼镜的普及始终受制于“体验与形态”的核心矛盾——传统方案要么以牺牲画质换取轻薄便携，要么靠厚重体积保障显示效果，二者难以兼顾。MicroLED与光波导的协同创新，从底层原理上破解了这一僵局，成为2026年AR产业爆发的关键变量。

然而，长期以来，海外厂商凭借先发优势，在AR核心器件领域构建了严密的专利与工艺壁垒，国内核心器件国产化率不足10%。但2025-2026年，国产技术在超表面光波导、硅基MicroLED等领域密集突破，正逐步改写全球竞争格局。本文将深度解析二者的技术协同逻辑，拆解海外垄断的核心壁垒，结合产业实践探讨国产技术的突围路径与长期价值。

技术协同：重构AR画质体验的核心逻辑

AR眼镜的核心竞争力，本质是“显示源+光学传输”的协同性能闭环，传统技术始终深陷“亮度不足、形态厚重、视场角狭窄”的三角困境。MicroLED（微型发光二极管）与光波导技术的深度融合，并非技术参数的简单叠加，而是基于“光源特性与光学传输需求精准适配”的底层逻辑重构，是显示技术与光学技术跨维度协同的必然结果，更是推动AR眼镜从“可用”向“好用”跨越的核心动力。

（一）MicroLED：AR显示的终极光源解决方案

MicroLED基于无机GaN材料的自发光特性，通过将LED芯片微缩至50μm以下，实现高亮度、高可靠性的微型显示效果。相较于AR领域传统的LCoS（硅基液晶）和MicroOLED（硅基OLED）技术，其核心优势精准匹配了AR眼镜“户外适配、长时间佩戴、轻薄便携”的核心需求，被业界视为AR显示的终极技术路径。

1. 超高亮度突破户外场景瓶颈：MicroLED峰值亮度可达100万尼特以上，即便经过光波导传输的光损耗，入眼亮度仍能轻松突破1500尼特，彻底解决了传统AR设备“室内清晰、室外失效”的致命短板。这一优势源于无机GaN材料的高发光效率，相较于有机材料的Micro OLED，其在强光环境下的对比度优势呈指数级增长。

2. 低功耗长寿命适配全场景需求：无机材料特性让MicroLED彻底规避了MicroOLED有机材料的老化烧屏问题，使用寿命可达10万小时以上，同时光电转换效率显著优于传统技术，能支撑AR眼镜长时间续航。

从产业应用视角看，这一特性直接降低了AR设备的全生命周期成本，尤其适配医疗手术、军事训练、工业运维等对设备稳定性要求极高的场景，无需频繁更换显示模组，保障了应用的连续性与可靠性，是AR技术规模化落地的重要前提。

3. 高集成度推动形态轻量化演进：AR眼镜用MicroLED采用“硅基集成”方案，通过晶圆级键合技术将LED外延层与硅基CMOS驱动背板集成，在指甲盖大小的区域内实现超高像素密度（PPI），为设备轻薄化设计奠定核心基础。

这一技术路径打破了传统显示“分辨率与体积正相关”的固有矛盾，实现了“高密度像素+小体积封装”的双重目标，推动AR眼镜向普通眼镜形态迭代。

立琻半导体的LEKIN-SiMiP®技术便是典型代表，其在单颗200μm×200μm芯片内集成RGB三基色像元，既简化了封装流程，又实现了超高集成度，为轻量化AR设备提供了核心支撑。

（二）光波导：AR光学传输的核心载体与技术博弈焦点

光波导基于“全内反射”原理，通过薄片式光学器件将MicroLED微屏发出的光线在轻薄基底中传导，再经光栅结构耦入人眼，实现“虚拟图像与真实环境叠加”的AR效果。其核心价值在于打破了传统AR眼镜“厚重头盔”的形态局限，是AR设备走向消费级市场的关键光学部件。

从技术演进趋势看，光波导技术始终围绕“视场角、轻薄度、透光率”三大核心指标迭代，当前形成体全息、衍射、超表面三大技术路线并存的格局。其中，衍射光波导是当前量产主流，而超表面光波导则凭借原理性优势，成为2028-2030年的主流技术方向，这一判断基于技术成熟度、产业适配性与性能上限的综合考量。

1. 三大技术路线的特性与竞争力对比：体全息光波导依托全息光栅衍射原理，具备透光率高、工艺简单的优势，但视场角狭窄、色散明显，且难以实现全彩显示，目前仅应用于低端入门级设备，市场份额持续萎缩。

衍射光波导通过基底表面浮雕光栅调控光线，工艺成熟度高，是当前量产机型的核心选择，其优势在于视场角与画质的平衡，通过光栅设计优化可降低残影与彩虹纹问题。

如瑞声科技在SPIE 2026展会上推出的碳化硅刻蚀光波导模组，采用折射率2.65的碳化硅基底，突破传统玻璃基底2.0的折射率上限，将全彩视场角扩展至50°，反射率降至5%以下，但多层结构设计导致厚度难以进一步缩减，且衍射效率存在理论天花板。

超表面光波导则由亚波长纳米结构组成，可通过结构参数精准调控光的相位、振幅与偏振，从原理上简化光学系统。天津大学团队研发的超表面闪耀光栅，实现单层结构1mm以下厚度，全彩视场角突破50°，透光率达85%以上，破解了“轻薄、全彩、大视场”的行业不可能三角。

相较于衍射光波导，其核心优势在于单层结构即可实现全彩大视场，且纳米结构可与半导体光刻工艺兼容，具备规模化量产潜力，随着纳米加工技术成熟，成本有望快速下降，是消费级AR眼镜的终极光学方案。

2. 全内反射：光波导轻量化的核心物理基础：当光线从高折射率光密介质射向低折射率光疏介质，且入射角大于临界角时，光线将完全反射回光密介质，无折射损耗，这一原理是光波导实现长距离光线传导的核心。

正是基于这一特性，光波导可在轻薄基底内高效传输光线，无需依赖复杂透镜组，大幅缩减了AR设备的体积与重量，为设备形态向普通眼镜靠拢提供了物理支撑。

（三）技术协同：1+1>2的画质与形态双重突破

MicroLED与光波导的组合形成了“光源适配+光学优化”的闭环生态：MicroLED的超高亮度弥补了光波导传输中的光损耗，保障了全场景显示效果；光波导的轻薄化设计则适配了MicroLED的微型化特性，推动设备形态迭代。

二者协同实现三大核心突破：一是形态轻薄化，模组厚度可缩至0.65mm，重量低至3.5克，接近普通眼镜佩戴体验；二是画质高清化，实现50°以上大视场角、无色散、高对比度显示，虚拟与现实叠加更自然；三是场景全适配，兼顾室内高清与户外强光使用，解锁全域应用场景，推动AR技术从“特定场景应用”向“全场景普及”跨越。

海外垄断：三重壁垒下的国产跟跑困境

尽管“MicroLED+光波导”技术前景广阔，但当前全球核心技术与产能仍被海外厂商主导，形成“专利封锁+材料垄断+设备壁垒”的三重格局，国产厂商长期处于跟跑状态。这一格局的形成源于海外厂商数十年的技术积累与全产业链布局，其核心竞争力在于“底层专利话语权+全产业链协同能力”，而非单一环节的技术优势。

（一）专利布局：底层技术话语权被海外掌控

截至2025年底，全球光波导领域专利申请量中，美国占比42%，中国占28%，日本占15%。数据看起来不值得焦虑，但值得注意的是，专利布局的结构性差异直接决定技术话语权：海外厂商聚焦底层基础专利，国内厂商则多集中于应用层专利，形成“底层受制于人、应用层内卷”的被动局面。

光波导领域，微软垄断衍射光波导光栅设计、Magic Leap掌控体全息光波导核心技术，其专利覆盖光栅结构、光路仿真算法等底层环节，国内厂商应用时需支付高额专利费，且面临随时被“卡脖子”的风险。

MicroLED领域，三星、索尼在巨量转移、硅基驱动背板技术上拥有数千项专利，三星的激光转移技术与索尼的晶圆级集成方案形成技术壁垒。

反观国内厂商的专利，多集中于封装、模组集成等中游环节，上游核心工艺专利依赖度高，难以形成颠覆性突破。

（二）材料与设备：高端领域深陷“卡脖子”困境

材料与设备是AR核心器件制造的基础，海外厂商在高端材料与核心设备领域的垄断，是制约国产技术突破的核心瓶颈，也是国产化进程中必须攻克的“硬骨头”。

光波导基底材料领域，德国肖特的高折射率玻璃（折射率1.9以上）占据全球高端市场，具备耐温性好、稳定性高的优势，国内高折射率树脂材料虽实现突破，但在耐温性、长期稳定性上存在差距，易出现黄变、变形问题。

MicroLED材料领域，日本住友化学、美国Cree垄断高质量GaN外延片供应，其产品质量直接决定芯片亮度与寿命，国产外延片在均匀性、缺陷密度等指标上落后，导致芯片良率与性能难以匹配高端需求。

设备方面，超表面光波导与MicroLED制造依赖纳米级精度设备，海外厂商主导核心设备市场。荷兰ASML的光刻机、日本东京电子的刻蚀设备，是超表面纳米结构加工的核心装备；美国K&S的激光转移设备，占据MicroLED巨量转移设备市场80%以上份额。

国内设备厂商虽实现中低端替代，但高端设备在精度、稳定性上存在差距，如超表面纳米结构加工用国产刻蚀设备，线宽均匀性不足导致量产良率偏低，制约了技术规模化落地。

（三）产业链协同：海外闭环生态对国产碎片化格局的压制

虽说国内的产业链一直在媒体的话语中是引以为豪的看家本领。但客观地讲，海外厂商已构建“材料-设备-芯片-模组-终端”的完整产业链闭环，垂直整合模式大幅提升技术迭代速度与成本控制能力。

如微软联合康宁、索尼打造AR光学方案，实现技术协同优化；三星通过全链条布局，从GaN外延片、MicroLED芯片到终端设备一体化推进，成本控制与迭代效率远超国内分散化厂商。

反观国内产业链，仍处于碎片化状态，材料、设备、芯片厂商各自为战，协同创新能力不足。材料厂商研发的高折射率碳化硅基底，难以适配国产刻蚀设备工艺；芯片厂商的MicroLED产品，与模组厂商需求对接不畅，导致性能无法充分发挥，既增加了研发成本，又延缓了量产进程。

国产突破：换道超车与产业链突围并行

面对海外垄断，国内科研团队与企业加速布局，避开海外专利壁垒，以“换道超车”策略在超表面光波导、碳化硅材料等领域实现突破，2025-2026年进入技术成果密集落地期，同时推动材料、设备国产化，逐步构建自主可控的产业链生态，国产化替代路径日益清晰。

（一）技术攻坚：以原理创新实现换道超车

超表面光波导成为国产突破的核心抓手。天津大学光电团队避开传统衍射光波导专利壁垒，以超表面技术为突破口，研发单层超表面闪耀光栅方案，通过逆向设计算法优化，实现RGB三色光精准调控，消除色散问题，全彩视场角突破50°，耦合效率较传统光栅提升35%。

更关键的是，该方案采用国产化纳米压印工艺，误差控制在5nm以内，单件成本较国外同类技术降低50%，具备规模化量产潜力，从原理上构建了自主可控的技术路线。

碳化硅材料应用实现量产突破。从SPIE 2026展会上可以看到，国内厂商集中发力碳化硅光波导。如歌尔光学的碳化硅光波导旗舰产品F50Se，搭配全彩小型化LCoS光机，在50°视场角下可实现1500尼特以上入眼亮度。而歌尔的F30Se模组整体镜片厚度仅0.65毫米、重量3.5克。以歌尔、慕德微纳等企业为代表的中国厂商，均展示出突破性的碳化硅方案。

MicroLED良率稳步提升。国内企业JBD实现单色0.13英寸400万尼特微显示器量产，全彩方案通过RGB芯片拼接技术突破，巨量转移良率提升至80%以上；立琻半导体的LEKIN-SiMiP®技术，采用硅基GaN蓝光晶圆结合色转换技术，规避巨量转移工序，大幅提升良率、降低成本，为国产化落地提供了多元路径。

（二）产业链突围：材料与设备国产化加速落地

材料自主化进程提速。中科院理化所研发的高折射率玻璃（折射率1.95）实现小批量量产，性能接近德国肖特产品；天岳先进、露笑科技建成8英寸碳化硅衬底生产线，打破海外垄断，为光波导与MicroLED芯片提供材料支撑，既降低了对外依存度，又通过本土化供应压缩成本。

设备国产化多点突破。中微公司的离子束刻蚀设备精度达5nm级别，可满足超表面纳米结构加工需求；华峰测控的MicroLED驱动芯片测试设备，实现微米级像素电流精准控制，替代海外同类产品。虽高端光刻机仍依赖进口，但刻蚀、转移、封装等环节的国产化替代，已为规模化生产提供装备保障。

生态协同机制逐步完善。政府牵头成立XR产业创新联盟，推动产学研用协同创新，天津大学超表面技术通过天开园转化，与瑞声、华为等企业合作推进量产；华为等头部企业通过垂直整合，联合国内材料、设备厂商打造产业链闭环，打破碎片化格局，实现技术研发与量产应用的高效对接，加速国产化方案落地。

（三）政策与市场双轮驱动：为国产化赋能增效

政策层面，我国将XR产业纳入“十四五”数字经济发展规划，对MicroLED、光波导等核心技术给予专项基金支持，通过知识产权保护与专利导航，引导企业规避海外专利壁垒，布局底层核心专利。深圳、青岛等地方政府设立XR产业园区，集聚产业链资源，提供产能落地支持，为国产化进程保驾护航。

市场层面，国内庞大的消费级与行业级市场为国产技术提供了丰富的应用场景，工业领域AR巡检、维修需求激增，国产方案凭借成本优势快速渗透；消费领域，搭载国产方案的AR眼镜价格下探至1500-2000元区间，加速市场普及，而场景化应用反哺技术迭代，形成“应用-优化-升级”的良性循环。

挑战与展望：国产技术的深耕之路

尽管国产技术取得显著突破，但与海外厂商仍存在差距：全彩MicroLED的色彩均匀性、巨量转移良率有待提升，与三星、索尼的技术指标存在差距；超表面光波导量产一致性不足，纳米结构批次稳定性需优化；底层专利布局薄弱，核心工艺专利依赖度较高，这些工程化难题需持续攻克。

2026-2030年是国产AR核心技术突破的关键期，我们认为需聚焦三大方向：

一是攻坚核心技术，突破全彩MicroLED巨量转移、超表面光波导量产工艺，提升技术稳定性与良率；

二是强化专利布局，推动企业与科研机构联合申请底层专利，构建国产专利矩阵，掌握技术话语权；

三是深化产业链协同，打造完整生态，通过产业联盟、合资合作实现资源共享，提升产业整体竞争力。

从产业价值看，“MicroLED+光波导”技术国产化，不仅能打破海外垄断、保障供应链安全，更能推动AR技术在工业、医疗、军事、消费等领域深度应用，催生新产业、新业态。

随着技术迭代与成本下降，AR眼镜有望成为下一代智能终端，而国产技术的突围，将为我国在全球XR产业竞争中实现从跟跑、并跑到领跑的跨越，奠定坚实基础。

因此我们认为：2026年国内将发生一场AR领域的“画质革命”。所谓“革命”的含义，既指技术迭代的必然结果，也指国产AR产业链的突围之战。从超表面光波导的原理创新到碳化硅材料的自主量产，从MicroLED良率突破到设备国产化推进，国产技术正以“换道超车”姿态打破海外垄断。

未来，唯有坚守技术创新、深化产业链协同、强化政策引导，方能推动中国AR产业在全球竞争中占据主动，实现高质量发展。

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