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华勤技术申请VR光学结构专利，有效减少VR光学结构反射光

发布日期：2023-12-04 16:00:00

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编译 / VRAR星球 R星人

据国家知识产权局12月4日公告，华勤技术股份有限公司申请一项名为“VR光学结构及电子设备”，公开号CN117148582A，申请日期为2023年8月。

图源：华勤通讯

专利摘要显示，本发明公开了一种VR光学结构，VR光学结构自物侧至像侧依次包括：第一透镜、第二透镜、抗反射组件及显示面板，显示面板设有第一四分之一波片；抗反射组件自物侧至像侧依次包括第一抗反射膜、第二四分之一波片、第一线性偏振膜及第三四分之一波片；其中，第一四分之一波片的旋转角度和第二四分之一波片的旋转角度相同，第一四分之一波片的旋转角度和第三四分之一波片的旋转角度差值为90°。

本发明的VR光学结构，无需在显示面板上贴膜，能够有效减少VR光学结构因反射产生的杂散光，提高成像质量。本发明还公开了一种电子设备，包括设备本体和上述第一方面的VR光学结构，VR光学结构设于设备本体。

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华勤技术 VR光学结构新专利

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