9月9日，第二十六届中国国际光电博览会（CIOE 2026）在深圳国际会展中心开幕。广纳四维（SEEV）以“呈现更丰富的世界”为主题亮相2号馆2A121展位，集中展示覆盖碳化硅刻蚀全彩、纳米压印全彩、单色高光效、超高透过率、超轻薄、屈光贴合的全产品光波导矩阵。

产品方面，碳化硅刻蚀全彩旗舰C30CE Pro相较去年C30CE，通过耦入镀铝工艺实现光效翻倍；其采用半导体级DUV光刻与高精度ICP刻蚀工艺，单片镜片实现原生全彩成像，有效消除彩虹纹，厚度＜0.6mm、单片重量＜3g。

C25C纳米压印单层全彩光波导兼顾性能与成本，制造成本降至主流刻蚀方案1/3或更低，适配消费级AR设备；D27I双色显示以接近全彩的视觉表现压低消费级成本门槛；B25G单色光波导已大批量稳定出货，是AI眼镜信息提示主力光学方案。超薄刻蚀Ultra-Thin SiC与超轻薄玻璃基底波导同步展出。

技术层面，该公司重点呈现四条主线：超透光波导基于自研整面PVD镀膜，非光栅区透过率提升至99%以上、光栅区94%以上；

超表面光波导引入蛾眼超表面结构，抑制光栅畸变并消除透过区域景象变形，已小批量产；碳化硅减薄由1.0mm向0.5mm、0.35mm、0.3mm、0.25mm推进，配合OCR液态光学胶全贴合，成本可降至传统方案1/3以下；屈光贴合以0.5mm SiC屈光贴合波导为代表，屈光范围覆盖-1.00D至-10.00D。

展位现场，多款搭载其光波导的量产AR眼镜同台展出，包括逸文科技Even Realities G1/G2、科大讯飞AI眼镜、Coray Air2碳化硅刻蚀全彩AR眼镜等。

同期，广纳四维联合创始人、CTO史瑞博士在“微纳加工产业论坛”发表主题演讲，指出单绿色光波导是当前产业化成熟度最高的AR光学方案。该公司以IDM模式覆盖光学设计、制造封装测试全链条。（新闻来源：VRAR星球报道）

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