韩国研发团队开发双层干式转印技术，有望在VR/AR中提供更逼真视图

发布日期：2024-08-27 15:17:51

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据韩媒近日消息，韩国研究团队开发出一种双层干式转印技术，可同时将发光层和电子转移层转印到基板上。该技术有望在XR中提供更逼真的视图，大大增强沉浸式体验。

QD/ZnO DL的高分辨率凹版转印，图源：Nature Photonics (2024)。DOI：10.1038/s41566-024-01496-x

据了解，双层干法转印技术该技术是一种新型的显示材料转移方法，可以同时将发光层和电子转移层转移到基材上。通过该技术制造的发光器件具有超高清和高效率的特点，能够呈现更为细腻和逼真的图像。

新型高密度双层薄膜通过降低界面电阻来促进电子注入，并控制发光器件制造中的漏电流传输，实现了高达23.3%的外部量子效率（EQE），这一数值与量子点发光器件的最大理论效率相近。

研究人员已经使用这种新薄膜制作了高达25526PPI的超高清量子点图案，并通过反复打印实现了8cm x 8cm的面积，证明了其在大规模产品商业化方面的可行性。AR和VR设备需要在小屏幕上传达大量信息，双层干法转印技术能有效满足要求，有望提供更清晰和逼真的视觉效果。

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双层干式转印技术 VR AR

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